如今隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，很多企業(yè)都采用建設(shè)電磁屏蔽機(jī)房來屏蔽一些不必要的電磁波的干擾，從而更好的進(jìn)行EMC測試實(shí)驗(yàn)，為了滿足人們的不同屏蔽需求，屏蔽技術(shù)水平也逐漸在提高。由于每個(gè)企業(yè)采用不同的屏蔽材料，因此很多用戶對(duì)于屏蔽房的屏蔽效果是否與屏蔽材料有關(guān)產(chǎn)生了很多疑問，那么哪些因素會(huì)影響屏蔽材料的效果呢?下面由江蘇莫克屏蔽廠家的工作人員為大家介紹：
1、電場波是最容易屏蔽的，平面波其次，磁場波是最難屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低頻磁場，很難被屏蔽掉。對(duì)于低頻磁場，要采用高導(dǎo)磁性材料屏蔽，幾種情況影響屏蔽材料的效果甚至采用高導(dǎo)電性材料和高導(dǎo)磁性材料復(fù)合起來的材料。
2、材料的導(dǎo)電性和導(dǎo)磁性越好，屏蔽效能越高，但實(shí)際的金屬材料不可能兼顧這兩個(gè)方面，例如銅的導(dǎo)電性很好，但是導(dǎo)磁性很差；鐵的導(dǎo)磁性很好，但是導(dǎo)電性較差。應(yīng)該使用什么材料，根據(jù)具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來決定是側(cè)重導(dǎo)電性還是導(dǎo)磁性;
3、頻率較低的時(shí)候，吸收損耗很小，反射損耗是屏蔽效能的主要機(jī)理，要盡量提高反射損耗;
4、頻率較高時(shí)，吸收損耗是主要的屏蔽機(jī)理，這時(shí)與輻射源是電場輻射源還是磁場輻射源關(guān)系不大。
5、反射損耗與輻射源的特性有關(guān)，對(duì)于電場輻射源，反射損耗很大；對(duì)于磁場輻射源，反射損耗很小。因此，對(duì)于磁場輻射源的屏蔽主要依靠材料的吸收損耗，應(yīng)該選用磁導(dǎo)率較高的材料做屏蔽材料。
6、反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關(guān)，對(duì)于電場輻射源，距離越近，則反射損耗越大；對(duì)于磁場輻射源，距離越近，則反射損耗越小；正確判斷輻射源的性質(zhì)，決定它應(yīng)該靠近屏蔽體，還是原理屏蔽體，是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的一個(gè)重要內(nèi)容。
以上哪些因素會(huì)影響屏蔽材料的效果就介紹到這里了，屏蔽材料在同距離、不同頻率、不同場源的屏蔽效果也是不同的，而不同類型的金屬材料也會(huì)帶來不同的屏蔽效果。所以在實(shí)踐應(yīng)用的時(shí)候還是需要具體情況具體分析的，找出一個(gè)最有效，最合適的屏蔽材料，來建設(shè)電磁屏蔽機(jī)房。
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